GB/T 17359-2012实际上是指《金属和其他无机覆盖层 电子和电工产品用金和金合金电镀层》，并不是专门针对铜上镀镍镀层成分检测的标准。对于铜基材上的镍镀层成分检测，通常会参考其他相关标准。以下是进行铜上镀镍镀层成分分析时可能涉及的一些方法和相关的国家标准：
相关测试方法
X射线荧光光谱法(XRF)
XRF是一种非破坏性的测试方法，适用于快速确定镀层中的元素组成及其浓度。
相关标准：如GB/T 16921-2005《金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X射线光谱法》。
化学分析法
包括经典的滴定法、重量法以及现代的原子吸收光谱(AAS)或电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)等技术，用于精确测定镍镀层中的主要成分及杂质含量。
相关标准：例如GB/T 5252-2009《镍电镀层质量要求》中可能会提到具体的化学分析方法。
扫描电子显微镜(SEM)结合能谱仪(EDS)
SEM可以提供镀层表面的微观形貌图像，而EDS则能够对选定区域内的元素种类及其相对含量进行半定量分析。
这种方法虽然不是直接用于成分比例的精确定量分析，但在研究镀层结构和分布方面非常有用。
辉光放电质谱(GDMS)
对于需要极高精度和分辨率的成分分析，GDMS是一个强有力的选择，它能够同时分析多种元素，并给出极低水平杂质的详细信息。
注意：这种方法较为专业且成本较高，一般在特殊需求下使用。
镀层成分控制的重要性
确保镀层成分符合设计要求对于保证产品的性能至关重要。镍镀层不仅提供了良好的耐蚀性，还能改善导电性和焊接性等特性。因此，准确地控制和验证镀层成分是制造高质量电子产品的重要环节之一。
结论
对于铜上镀镍镀层的具体成分检测，建议查阅专门针对镍镀层的质量标准，如GB/T 5252或其他适用的行业标准。这些标准将为如何执行成分分析提供详细的指导和技术要求。如果需要更专业的帮助或者特定条件下（比如环保要求、高精度要求）的分析，则应咨询我司实验室或参照国际先进标准。